Advanced Mask Technology Center
| Advanced Mask Technology Center GmbH Co. KG | |
|---|---|
| Rechtsform | Joint Venture |
| Gründung | 2002 |
| Sitz | Dresden |
| Mitarbeiterzahl | ca. 170<ref>Jürgen Kuri: Mikroelektronik-Standort Dresden wird erweitert. In: heise online. 12. Dezember 2012, abgerufen am 14. Januar 2014. </ref> |
| Branche | Mikroelektronik |
| Website | www.amtc-dresden.com |
Das Advanced Mask Technology Center (AMTC) ist ein sogenanntes Maskenhaus, das heißt ein Unternehmen, das sich mit der Entwicklung und Produktion von Fotolithografiemasken beschäftigt – einem der wichtigsten Elemente für die fotolithografische Strukturierung von Wafern und somit für den gesamten Herstellungsprozess integrierter Schaltkreise (ICs).
Das Unternehmen wurde im Jahr 2002 als Joint-Venture von Advanced Micro Devices (AMD), Infineon Technologies und DuPont Photomasks zu gleichen Anteilen gegründet.<ref>AMD, Infineon und DuPont Photomasks legen Grundstein für gemeinsames Maskenzentrum in Dresden - Infineon Technologies. 4. Juni 2002, abgerufen am 12. Januar 2014 (Pressemeldung Infineon).</ref> Nach der Übernahme von DuPont Photomasks durch Toppan Photomasks (TPI) im Jahr 2004,<ref>Peter-Michael Ziegler: Photomasken-Spezialist Toppan übernimmt US-Konkurrenten DuPont. In: heise online. 5. Oktober 2004, abgerufen am 12. Januar 2014.</ref> der Ausgliederung der Halbleiterspeichersparte von Infineon in das Unternehmen Qimonda im Jahr 2004 und dessen Insolvenz im Jahr 2009 sowie der Eingliederung der ausgegliederten Halbleiterwerke von AMD in die neu gegründete Foundry Globalfoundries, ist das AMTC seit 2009 ein Joint-Venture von Globalfoundries und Toppan Photomasks Inc. (TPI). Beide Partner sagten 2012 zu, die Partnerschaft mindestens bis 2017 fortzuführen.<ref>Toppan Photomasks und GLOBALFOUNDRIES verlängern Joint Venture und planen weitere Investitionen in gemeinsames Maskenzentrum in Dresden. AMTC, 12. Dezember 2012, archiviert vom Vorlage:IconExternal am 16. Januar 2014; abgerufen am 14. August 2019 (Pressemeldung).</ref> Ein Schwerpunkt des AMTC soll dabei auf der Produktionssteigerung für Masken zur 28-nm- und 20-nm-Technik sowie der Technologieentwicklung und -einführung für die 14-nm-Technologie liegen. Wobei letztere die Entwicklung von Masken für die EUV-Lithografie einschließt.
Weblinks[Bearbeiten]
Einzelnachweise[Bearbeiten]
<references />
Koordinaten: 51° 7′ 38,3″ N, 13° 44′ 33″ O
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