Cobaltdisilicid

Kristallstruktur
Vorlage:Farbe Co2+ 0 Vorlage:Farbe Si−
Allgemeines
Name	Cobaltdisilicid
Andere Namen	Kobaltsilizid Cobaltdisilicid
Verhältnisformel	CoSi2
Kurzbeschreibung	grauer geruchloser Feststoff<ref name="Alfa" />
Externe Identifikatoren/Datenbanken
CAS-Nummer Vorlage:CASRN EG-Nummer 234-616-8 ECHA-InfoCard 100.031.457 PubChem DrugBank Wikidata [[:d:|]]
Eigenschaften
Molare Masse	115,11 g·mol−1
Aggregatzustand	fest<ref name="Alfa" />
Dichte	5,3 g·cm−3<ref name="Alfa" />
Schmelzpunkt	1277 °C<ref name="Alfa" />
Löslichkeit	praktisch unlöslich in Wasser<ref name="Alfa" />
Sicherheitshinweise
GHS-Gefahrstoffkennzeichnung<ref name="Alfa">Kobaltsilizid, graues Pulver, 99 % (Metallbasis). In: Chemikalien › Salze und anorganische Verbindungen › Anorganische Salze › Übergangsmetallsalze. Thermo Fisher Scientific, 2024. Auf ThermoFisher.com, abgerufen am 27. Oktober 2024.</ref> Gefahr H- und P-Sätze H: 334​‐​315​‐​319​‐​317​‐​335 P: 302+352​‐​333+313​‐​337+313​‐​304+340​‐​312​‐​280​‐​332+313<ref name="Alfa" />
Wenn nicht anders vermerkt, gelten die angegebenen Daten bei Standardbedingungen (0 °C, 1000 hPa).

Cobaltdisilicid ist eine chemische Verbindung des Cobalts aus der Gruppe der Silicide.

Gewinnung und Darstellung

Cobaltdisilicid kann durch Reaktion von Cobalt mit Silicium gewonnen werden.<ref name="Lih J. Chen, Institution of Electrical Engineers">Lih J. Chen, Institution of Electrical Engineers: Silicide Technology for Integrated Circuits. IET, 2004, ISBN 978-0-86341-352-0, S. 78 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche). </ref>

<math>\mathrm{Co + 2 \ Si \longrightarrow CoSi_2}</math>

Eigenschaften

Cobaltdisilicid ist ein grauer, geruchloser Feststoff, der praktisch unlöslich in Wasser ist.<ref name="Alfa" /> Er besitzt eine kubische Kristallstruktur vom Fluorittyp mit der Raumgruppe Fm3m (Raumgruppen-Nr. 225)Vorlage:Raumgruppe/225.<ref name="Lih J. Chen, Institution of Electrical Engineers" />

Verwendung

Cobaltdisilicid wird vielfältig in der chemischen Forschung eingesetzt.

In der Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik wird Cobaltsilicid für die niederohmige Kontaktierung von Silicium bei der Herstellung von hochintegrierten Schaltkreisen (VLSI) in 250-nm- bis 90-nm-Technik verwendet.<ref name="Alfa" /> Es löste zunächst das gängige Titandisilicid ab, wurde dann ab dem 90-nm-Technologieknoten aufgrund von physikalischen Nachteilen zunehmend durch Dinickelsilicid ersetzt (siehe Salicide-Prozess).

Verwandte Verbindungen

Neben Cobaltdisilicid sind mit dem orthorhombischen Co₂Si, dem kubischen CoSi und dem kubischen CoSi₃ mindestens drei weitere Cobaltsilicide bekannt. Zwei weitere, Co₅Si₃ und Co₃Si, sind noch nicht genau untersucht.<ref name="E. G. Rochow">Eugene G. Rochow: The Chemistry of Silicon Pergamon International Library of Science, Technology, Engineering and Social Studies. Elsevier, 2013, ISBN 978-1-4831-8755-6, S. 1360 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche). </ref>

Einzelnachweise

<references />